ASML助陣台積先進製程喊衝 - UDN 聯合新聞網

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全球半導體微影大廠艾司摩爾（ASML）的EUV (極紫外光)全球技術培訓中心昨（20）日在台南科學園區開幕，就近服務第一大客戶台積電(2330)。

主管台積電先進製程的副總經理王英郎特地出席站台。他強調，這項策略可解決台積電在疫情期間派員赴荷蘭訓練的困擾，加速訓練操作人員，有助提升5奈米以下先進製程良率。

王英郎指出，ASML的EUV設備，是目前全球半導體最昂貴設備，根據ASML的年報，一台EUV賣價約1.2-1.4億歐元(約新台幣40億元。這台設備是目前全球最複雜且最具關鍵性的設備。目前最先進的晶片內建電晶體數密度，同樣面積在短短幾年，由1億顆增至100億顆，晶片耗電還比以前低，因有EUV，將使晶片尺寸變的更小，功能更強，讓很多科技得以實現。

他說，台積電多年前就投片EUV微影技術研發，並希望ASML能在台設立培育中心，這座培訓中心對台積電推進先進製程是一大助力。

ASML全球副總裁暨台灣區總經理陳文光表示，2010年起ASML就提供第一台EUV微影設備原型機給台積電進行研發工作。至今，台灣的EUV裝機規模領先全球。

ASML的EUV全球技術培訓中心斥資4.7億元，配備實機模組，提供技術理論課程和無塵室實機操作課程等多元化培訓內容。並有14位講師，估計每年提供數千小時的課程，可為ASML客戶培育360位EUV技術工程師。陳文光表示，ASML在台灣有2,800名員工，其中研發人員約280人，預計3年內將擴徵至500人。

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